一、粉磨原理及簡介：

　　金屬硅專用磨一種針對于金屬硅這類高硬度物料而研制的專用粉磨設備。

　　金屬硅專用磨為立式結構，物料從磨機上部進入，在工作倉內經過不同結構的制粉介質加工、制粉后被粉碎的物料從磨機下部的出料口出料。金屬硅專用磨可以通過轉速和介質調節來控制金屬硅在制粉過程中無效粉的產生(無效粉越少越好)且成品粉質量好，便于金屬硅后期反應工藝。從而大大的降低金屬硅制粉企業的生產成本，提高硅粉企業的競爭實力。

　　金屬硅專用磨投放市場以來在全國已建成80多條金屬硅制粉生產線，均獲得使用企業好評。在金屬硅制粉行業已成為使用客戶最多的制粉設備供應商。使用客戶中不乏金屬硅制粉行業龍頭企業。

　　金屬硅專用磨在負粉控制、成品粉質量、使用綜合成本、設備穩定性、安全性等方面獲得客戶好評，氣流磨，粉體設備 金屬硅是一種質硬易碎的物料，在粉磨過程中篩余物不能有效的控制，過粉磨現象嚴重，造成產品浪費大，生產成本高，產品粒徑不達標，致使產品沒有競爭力。多年來硅粉這一老大難的問題一直困擾著廣大硅生產企業。 塊為原料制取硅粉的方法很多。其中效果較好、應用較多的是雷蒙法，對輥法、盤磨法和沖旋法。所用設備相應是雷蒙法、對輥機、盤磨機(也稱立磨)和沖旋法。就制粉原理看，前三種是擠壓粉碎，后一種是沖擊粉碎，就其結構看，相異很大，各有特色，各有優缺點。

　　活性好的表現有兩方面：一是反應迅速，穩定，且易于控制;二是反應完全，單耗低，即合成1t甲基氯硅烷的硅粉耗量低，為了獲得高活性的硅粉，必須使高塊的制取方法、硅塊的化學成分、環境條件及硅硅粉的制取方法都達到最佳水平。事實上，制粉工藝對硅粉活性的影響也很大。判定硅粉活性的標準主要有：硅粉的微觀結構、比表面積、粒徑分布和生產使用效果，現分述如下： 成分符合要求的金屬硅在煉制過程中已獲得最佳微觀結構，從而保證其擁有參與合成反應的最佳活性。制粉時一定盡量要降低對其微觀結構的劣化作用，減少晶粒及晶粒群間的變形，使絕大部分硅粉保持原有的微觀結構，以保持或提高其活性。四種方法中，以沖旋法最佳，因為該法是利用凌空擊打的方式來使硅塊自身循著體內最薄弱的環節碎裂，沒有因擠壓引起的結構變形。

　　硅粉的比表面積是參與化學反應能力的重要指標。硅粉的比表面積越大，同氯甲烷接觸的面積越大，反應活性越高，硅的利用率就越高、單耗就越低;因此，比表面積是判定硅粉活性的一個重要指標。可以看出，采用沖旋法制得的硅粉的比表面積最大。